微流控芯片制造技術(shù)介紹（四）

    5、LIGA技術(shù)性

    LIGA技術(shù)性是通過光刻、電鍍工藝和塑鑄三個環(huán)節(jié)構(gòu)成，準(zhǔn)LIGA技術(shù)性要用紫外線燈源代替LIGA技術(shù)性里的同步輻射X光深層次光刻，然后再進行后續(xù)微電鍍工藝的微拷貝加工工藝。不需要同步輻射X光光刻和特制X光掩膜板，有益于完成微機械器件的批量生產(chǎn)。依據(jù)紫外線深層次光刻的工藝流程的差異，準(zhǔn)LIGA技術(shù)性可以分為雙層光刻-LIGA、硅模深刻蝕一LIGA和SU-8深層次光刻一LIGA三類。

    6、激光燒蝕法

    激光燒蝕法有一種非接觸的微細加工技術(shù)性。它可以立即依據(jù)電子計算機CAD的信息在金屬、塑膠、瓷器等相關(guān)材料上生產(chǎn)加工繁雜的薄膜光學(xué)，已運用于微模和微通道加工。此方法對技術(shù)裝備要求很高，流程簡單，并且無需要潔凈自然環(huán)境，精確度高。但是由于紫外激光動能大，有一定的風(fēng)險，需要在規(guī)范激光器實驗室里來操作，應(yīng)用安全防護武器裝備護目鏡。

    7、軟光刻

    軟光刻相對于微技術(shù)領(lǐng)域中占主導(dǎo)地位的光刻來說的微圖型遷移的微生產(chǎn)制造新方法，以自組裝單分子層、彈力圖章和聚合物橡塑制品技術(shù)性為核心的微細加工新技術(shù)應(yīng)用。它能夠生產(chǎn)制造繁雜的三維結(jié)構(gòu)及不規(guī)律斜面；能用于生物高分子、膠體溶液、夾層玻璃、瓷器等幾種原材料；并沒有有關(guān)透射所帶來的精密度限定，能夠達到30nm~1um級細微規(guī)格；因而軟光刻是一種劃算、便捷，適合試驗室所使用的技術(shù)性。

    軟光刻技術(shù)性的關(guān)鍵在于彈力模圖章，可以通過光刻蝕和橡塑制品的辦法制取。PDMS是軟光刻常用的彈力模圖章。軟光刻的核心技術(shù)主要包含微觸碰包裝印刷、再鑄模、微傳送成模、毛細血管成模、有機溶劑協(xié)助成模等。

    軟光刻技術(shù)性還存在著一些缺點，如PDMS固化有1%的伸縮變型，并且在二甲苯和己烷的影響下，深寬比將會出現(xiàn)一定的澎漲；PDMS的韌性和熱膨脹性使之難以獲得高準(zhǔn)確性，也使得軟光刻在多方位的微加工中受限制；因為彈力模過軟，難以獲得大一點的深寬比，很大或過小寬深比都可能導(dǎo)致薄膜光學(xué)的變形歪曲。